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TFT用正性光刻胶
产品介绍

在基本的水显影剂中可显影的正性光刻胶:厚度范围:  0.7-3微米 / 3-25微米

表现: 无需HMDS或助粘剂,有效抑制反射刻痕,消除了敏化剂升华,防止了烘烤排气管线的堵塞,出色的解析能力,曝光时间短,开发时间短,优异的耐温性,在RR4中易于清除抗蚀剂,室温下储存期超过1年。